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蘋果未來目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)屏下Face ID，華為大曲率弧面屏專利圖曝光

日期：2021-08-24 11:49:41    　　點(diǎn)擊：

相關(guān)標(biāo)簽： 第26類商標(biāo)注冊(cè) 版權(quán)聲明 第5類商標(biāo)注冊(cè) 第23類商標(biāo)注冊(cè)

近日表示雖然蘋果測(cè)試過在下一代 iPhone 上使用屏下觸控 ID，但今年不會(huì)出現(xiàn)。同時(shí)，未來高端 iPhone 會(huì)繼續(xù)將重點(diǎn)放在面容 ID 技術(shù)上，最終目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)屏下面容 ID。第一種：高端 iPhone 采用 屏下面容 ID，低端 iPhone 采用有劉海的面容 ID，第二種：高端 iPhone 采用屏下面容 ID，低端 iPhone 采用屏下觸控 ID，對(duì)于 iPhone 13，目前已知的消息包括更小劉海、120Hz ProMotion 高刷屏，Pro 型號(hào)最高選擇 1TB 存儲(chǔ)空間，性能更強(qiáng)的 A15芯片，以及全新攝像頭傳感器。

 

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本文來源：http://m.gdyuanlong.cn/2021/hyxw_0824/5602.html

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